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（一）概述
    近年来世界各国电子行业的发展很快，我国每年就需蚀刻剂20万吨左右，传统蚀刻剂大多采用氯化铜类，主要用于印制电路板(PCB)铜的蚀刻。经济发展对环境的压力与需求增大，中国电路板产业规模目前已经升居全球第二，随着我国电子工业的发展，氯化铜将成为21世纪电路行业的基础材料，需求量将快速增长，有很好的市场前景。
    （二）市场情况
    我国氯化铜年需求量约为7.5万吨以上，需求规模继续呈现快速增长的态势，年增速超过30%，预计2010年国内的氯化铜市场需求量将达到29.5万吨左右。氯化铜生产原料的供应在短期内难以迅速增长，而需求却在增加，特别是我国经济以及PCB行业的高速发展，将带动对氯化铜需求的不断增长。
    （三）工艺技术方案
    本项目推荐采用以氧化铜为原料进行的盐酸法工艺。氧化铜为原料的盐酸法工艺是将一定量的氧化铜逐渐加入到盛有盐酸的反应器中，边搅边加入进行酸解反应，生成氯化铜，当反应溶液的PH值为2、浓度为35~37^。B^/e时，反应完成，经静止澄清，在清液中加入次氯酸钠，使二价铁氧化成三价铁，水解过滤除去。滤液经蒸发浓缩、冷却结晶、离心分离，在60~70℃下干燥，制得氯化铜成品。
    （四）建设规模：
    年产氯化铜4000吨。
    （五）原材料及公用工程供应
    年耗用氧化铜1980吨，盐酸6000吨，电耗48万KWh，水耗2000吨。
    （六）总投资及效益估算
    项目总投资3000万元。项目建成达产后，年销售收入8000万元，年均利润总额938万元，年均利税总额1400万元，投资利润率31%，投资利税率47%，投资回收期3.20年。

 

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